دانلود کتاب مسطح سازی شیمیایی-مکانیکی مواد نیمه هادی بعد از پرداخت مقدور خواهد بود
توضیحات کتاب در بخش جزئیات آمده است و می توانید موارد را مشاهده فرمایید
نام کتاب : Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials
ویرایش : 1
عنوان ترجمه شده به فارسی : مسطح سازی شیمیایی-مکانیکی مواد نیمه هادی
سری : Springer Series in Materials Science 69
نویسندگان : Michael R. Oliver (auth.), Dr. Michael R. Oliver (eds.)
ناشر : Springer-Verlag Berlin Heidelberg
سال نشر : 2004
تعداد صفحات : 431
ISBN (شابک) : 9783642077388 , 9783662062340
زبان کتاب : English
فرمت کتاب : pdf
حجم کتاب : 14 مگابایت
بعد از تکمیل فرایند پرداخت لینک دانلود کتاب ارائه خواهد شد. درصورت ثبت نام و ورود به حساب کاربری خود قادر خواهید بود لیست کتاب های خریداری شده را مشاهده فرمایید.
این جلد بررسی جامعی از فناوری CMP (سطحسازی مکانیکی-شیمیایی) است که اکنون بخش عمدهای از پیشرفتهترین فناوری نیمهرسانا است. بحث های مفصلی در مورد تمام جنبه های این فناوری، هم برای دی الکتریک ها و هم برای فلزات وجود دارد. وضعیت مدل های پرداخت و ارتباط آنها با نتایج تجربی پوشش داده شده است. ابزار پولیش و مواد مصرفی نیز پوشش داده شده است. موضوعات برتر دمشق و دی الکتریک های جدید و همچنین فناوری بدون دوغاب مورد بحث قرار گرفته است.
This volume is a comprehensive review of CMP (Chemical-Mechanical Planarization) technology, which is now a major part of state-of-the-art semiconductor technology. There are detailed discussions of all aspects of the technology, for both dielectrics and metals. The state of polishing models and their relation to experimental results are covered. Polishing tools and consumables are also covered. The leading edge issues of damascene and new dielectrics as well as slurryless technology are discussed.