دانلود کتاب به سمت اولین لیزر سیلیکونی بعد از پرداخت مقدور خواهد بود
توضیحات کتاب در بخش جزئیات آمده است و می توانید موارد را مشاهده فرمایید
نام کتاب : Towards the First Silicon Laser
ویرایش : 1
عنوان ترجمه شده به فارسی : به سمت اولین لیزر سیلیکونی
سری : NATO Science Series 93
نویسندگان : Martin A. Green, Jianhua Zhao, Aihua Wang, Thorsten Trupke (auth.), Lorenzo Pavesi, Sergey Gaponenko, Luca Dal Negro (eds.)
ناشر : Springer Netherlands
سال نشر : 2003
تعداد صفحات : 494
ISBN (شابک) : 9781402011948 , 9789401001496
زبان کتاب : English
فرمت کتاب : pdf
حجم کتاب : 19 مگابایت
بعد از تکمیل فرایند پرداخت لینک دانلود کتاب ارائه خواهد شد. درصورت ثبت نام و ورود به حساب کاربری خود قادر خواهید بود لیست کتاب های خریداری شده را مشاهده فرمایید.
سیلیکون، ماده پیشرو در میکروالکترونیک در چهار دهه گذشته، همچنین وعده داده است که ماده کلیدی در آینده باشد. علیرغم بسیاری از ادعاها مبنی بر اینکه فناوری سیلیکون به محدودیت های اساسی رسیده است، عملکرد میکروالکترونیک سیلیکونی به طور پیوسته بهبود می یابد. تقریباً برای همه برنامه هایی که Si برای آنها نامناسب در نظر گرفته شده است، همین امر صادق است. استثنای اصلی این روند مثبت، لیزر سیلیکونی است که تا به امروز نشان داده نشده است. دلیل اصلی این امر ناشی از یک محدودیت اساسی مربوط به ماهیت غیر مستقیم شکاف باند Si است. در گذشته نزدیک، رویکردهای مختلفی برای دستیابی به این هدف اتخاذ شده است: سیلیکون جابجا شده، سیلیکون بسیار خالص، نانوبلورهای سیلیکونی، سیلیکون متخلخل، Er doped Si-Ge، آلیاژهای SiGe و چاه های چند کوانتومی، نقاط کوانتومی SiGe، ساختارهای آبشاری کوانتومی SiGe، مراکز ناخالصی کم عمق در سیلیکون و سیلیکون دوپ شده Er. همه اینها در کتاب حاضر به وفور نشان داده شده است.
Silicon, the leading material in microelectronics during the last four decades, also promises to be the key material in the future. Despite many claims that silicon technology has reached fundamental limits, the performance of silicon microelectronics continues to improve steadily. The same holds for almost all the applications for which Si was considered to be unsuitable. The main exception to this positive trend is the silicon laser, which has not been demonstrated to date. The main reason for this comes from a fundamental limitation related to the indirect nature of the Si band-gap. In the recent past, many different approaches have been taken to achieve this goal: dislocated silicon, extremely pure silicon, silicon nanocrystals, porous silicon, Er doped Si-Ge, SiGe alloys and multiquantum wells, SiGe quantum dots, SiGe quantum cascade structures, shallow impurity centers in silicon and Er doped silicon. All of these are abundantly illustrated in the present book.