توضیحاتی در مورد کتاب Characterization and Metrology for ULSI Technology 2000: International Conference (AIP Conference Proceedings)
نام کتاب : Characterization and Metrology for ULSI Technology 2000: International Conference (AIP Conference Proceedings)
ویرایش : 1
عنوان ترجمه شده به فارسی : خصوصیات و اندازه شناسی برای فناوری ULSI 2000: کنفرانس بین المللی (مجموعه مقالات کنفرانس AIP)
سری :
نویسندگان : David G. Seiler, Alain C. Diebold, Thomas J. Shaffner, Robert McDonald, W. Murray Bullis, Patrick J. Smith, Erik M. Secula
ناشر : American Inst. of Physics
سال نشر : 2001
تعداد صفحات : 205
ISBN (شابک) : 156396967X , 9781563969676
زبان کتاب : English
فرمت کتاب : djvu درصورت درخواست کاربر به PDF تبدیل می شود
حجم کتاب : 6 مگابایت
بعد از تکمیل فرایند پرداخت لینک دانلود کتاب ارائه خواهد شد. درصورت ثبت نام و ورود به حساب کاربری خود قادر خواهید بود لیست کتاب های خریداری شده را مشاهده فرمایید.
توضیحاتی در مورد کتاب :
جامعه جهانی نیمه هادی ها با حرکت به سمت تولید تراشه هایی با اندازه ویژگی نزدیک به 100 نانومتر با چالش های فزاینده ای دشوار روبرو می شود. برخی از چالشها مربوط به مواد هستند، مانند ترانزیستورهایی با دیالکتریکهای k بالا و اتصالات روی تراشه ساخته شده از مس و دیالکتریکهای با k پایین. بزرگی این چالش ها توجه ویژه ای را از سوی کسانی که در جامعه اندازه شناسی و اندازه گیری های تحلیلی هستند می طلبد. خصوصیات و اندازه شناسی توانمندسازهای کلیدی برای توسعه فناوری فرآیند نیمه هادی و در بهبود تولید هستند. این کتاب مسائل اصلی را خلاصه می کند و بررسی انتقادی تکنیک های اندازه گیری مهمی را ارائه می دهد که برای ادامه پیشرفت در فناوری نیمه هادی ها حیاتی هستند. این بخش جنبههای اصلی فناوری فرآیند و بیشتر تکنیکهای مشخصسازی برای تحقیقات سیلیکون، از جمله توسعه، ساخت، و تشخیص را پوشش میدهد. تصویری مختصر و مؤثر از نیازهای توصیف صنعت و برخی از مشکلاتی که باید توسط صنعت، دانشگاه، و دانشگاه مورد توجه قرار گیرند، ارائه میکند. دولت به پیشرفت چشمگیر در فناوری نیمه هادی ها ادامه دهد. همچنین زمینه ای برای تحریک دیدگاه های عملی و ایده های جدید برای تحقیق و توسعه فراهم می کند.
توضیحاتی در مورد کتاب به زبان اصلی :
The worldwide semiconductor community faces increasingly difficult challenges as it moves into the manufacturing of chips with feature sizes approaching 100 nm. Some of the challenges are materials-related, such as transistors with high-k dielectrics and on-chip interconnects made from copper and low-k dielectrics. The magnitude of these challenges demands special attention from those in the metrology and analytical measurements community. Characterization and metrology are key enablers for developing semiconductor process technology and in improving manufacturing.This book summarizes major issues and gives critical reviews of important measurement techniques that are crucial to continue the advances in semiconductor technology. It covers major aspects of the process technology and most characterization techniques for silicon research, including development, manufacturing, and diagnostics.It provides a concise and effective portrayal of industry characterization needs and some of the problems that must be addressed by industry, academia, and government to continue the dramatic progress in semiconductor technology. It also provides a basis for stimulating practical perspectives and new ideas for research and development.