دانلود کتاب Design for Manufacturability with Advanced Lithography
کتاب طراحی برای قابلیت ساخت با لیتوگرافی پیشرفته نسخه زبان اصلی
دانلود کتاب طراحی برای قابلیت ساخت با لیتوگرافی پیشرفته بعد از پرداخت مقدور خواهد بود
توضیحات کتاب در بخش جزئیات آمده است و می توانید موارد را مشاهده فرمایید
توضیحاتی در مورد کتاب Design for Manufacturability with Advanced Lithography
نام کتاب : Design for Manufacturability with Advanced Lithography
ویرایش : 1
عنوان ترجمه شده به فارسی : طراحی برای قابلیت ساخت با لیتوگرافی پیشرفته
سری :
نویسندگان : Bei Yu, David Z. Pan (auth.)
ناشر : Springer International Publishing
سال نشر : 2016
تعداد صفحات : 173
ISBN (شابک) : 9783319203843 , 9783319203850
زبان کتاب : English
فرمت کتاب : pdf
حجم کتاب : 5 مگابایت
بعد از تکمیل فرایند پرداخت لینک دانلود کتاب ارائه خواهد شد. درصورت ثبت نام و ورود به حساب کاربری خود قادر خواهید بود لیست کتاب های خریداری شده را مشاهده فرمایید.
توضیحاتی در مورد کتاب :
این کتاب خوانندگان را با پیشرفته‌ترین نتایج تحقیقاتی در زمینه طراحی برای تولید (DFM) با لیتوگرافی الگوی چندگانه (MPL) و لیتوگرافی پرتو الکترونی (EBL) آشنا می‌کند. نویسندگان مجموعه‌ای از الگوریتم‌ها/روش‌شناسی را به تفصیل برای حل مسائل در طراحی مدرن برای مشکلات ساخت با لیتوگرافی پیشرفته توصیف می‌کنند. برخلاف کتاب‌هایی که DFM را از سطح محصول یا سطح تولید فیزیکی مورد بحث قرار می‌دهند، این کتاب راه‌حل‌های DFM را از سطح طراحی مدار توصیف می‌کند، به طوری که بیشتر مسائل مهم را می‌توان از طریق الگوریتم‌های ترکیبی فرمول‌بندی و حل کرد.
فهرست مطالب :
Front Matter....Pages i-xi
Introduction....Pages 1-6
Layout Decomposition for Triple Patterning....Pages 7-51
Layout Decomposition for Other Patterning Techniques....Pages 53-82
Standard Cell Compliance and Placement Co-Optimization....Pages 83-109
Design for Manufacturability with E-Beam Lithography....Pages 111-157
Conclusions and Future Works....Pages 159-162
Back Matter....Pages 163-164
توضیحاتی در مورد کتاب به زبان اصلی :
This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.
پست ها تصادفی