دانلود کتاب اپتیک الکترون و یون بعد از پرداخت مقدور خواهد بود
توضیحات کتاب در بخش جزئیات آمده است و می توانید موارد را مشاهده فرمایید
نام کتاب : Electron and Ion Optics
ویرایش : 1
عنوان ترجمه شده به فارسی : اپتیک الکترون و یون
سری : Microdevices
نویسندگان : Miklos Szilagyi (auth.)
ناشر : Springer US
سال نشر : 1988
تعداد صفحات : 549
ISBN (شابک) : 9781461282471 , 9781461309239
زبان کتاب : English
فرمت کتاب : pdf
حجم کتاب : 13 مگابایت
بعد از تکمیل فرایند پرداخت لینک دانلود کتاب ارائه خواهد شد. درصورت ثبت نام و ورود به حساب کاربری خود قادر خواهید بود لیست کتاب های خریداری شده را مشاهده فرمایید.
میدان نوری الکترون و یون بر اساس قیاس بین نور هندسی نور و حرکت ذرات باردار در میدان های الکترومغناطیسی است. توسعه چشمگیر میکروسکوپ الکترونی به وضوح امکان تشکیل تصویر توسط ذرات باردار با طول موج بسیار کوتاهتر از نور مرئی را نشان می دهد. با ظهور کاربردهای جدید مانند شتابدهندههای ذرات، لولههای پرتو کاتدی، طیفسنجهای جرمی و انرژی، لولههای مایکروویو، ابزارهای تحلیلی از نوع اسکن، فناوریهای پرتو سنگین و غیره، دامنه اپتیک پرتو ذرات به شکلگیری کاوشگرهای ظریف گسترش یافته است. . هدف این است که تا حد امکان ذرات را در حجم کوچکی که ممکن است متمرکز کنید. ساخت ریز مدارها نمونه خوبی از اهمیت روزافزون این حوزه است. روند فعلی به سمت افزایش پیچیدگی مدار و چگالی الگو است. به دلیل محدودیت پراش فرآیندهای با استفاده از فوتون های نوری و مشکلات تکنولوژیکی مرتبط با فرآیندهای اشعه ایکس، پرتوهای ذرات باردار در حال محبوب شدن هستند. با آنها می توان مستقیماً روی ویفر تحت کنترل رایانه و بدون استفاده از ماسک نوشت. پرتوهای یون متمرکز امکانات بسیار خوبی را در ناحیه زیر میکرون ارائه می دهند. بنابراین، فناوریهای پرتو الکترونی و یونی احتمالاً در بیست سال آینده نقش بسیار مهمی ایفا خواهند کرد.
The field of electron and ion optics is based on the analogy between geometrical light optics and the motion of charged particles in electromagnetic fields. The spectacular development of the electron microscope clearly shows the possibilities of image formation by charged particles of wavelength much shorter than that of visible light. As new applications such as particle accelerators, cathode ray tubes, mass and energy spectrometers, microwave tubes, scanning-type analytical instruments, heavy beam technologies, etc. emerged, the scope of particle beam optics has been exten ded to the formation of fine probes. The goal is to concentrate as many particles as possible in as small a volume as possible. Fabrication of microcircuits is a good example of the growing importance of this field. The current trend is towards increased circuit complexity and pattern density. Because of the diffraction limitation of processes using optical photons and the technological difficulties connected with x-ray processes, charged particle beams are becoming popular. With them it is possible to write directly on a wafer under computer control, without using a mask. Focused ion beams offer especially great possibilities in the submicron region. Therefore, electron and ion beam technologies will most probably playa very important role in the next twenty years or so.