Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology

دانلود کتاب Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology

دسته: ابزار

37000 تومان موجود

کتاب راهنمای فناوری تمیز کردن ویفر نیمه هادی نسخه زبان اصلی

دانلود کتاب راهنمای فناوری تمیز کردن ویفر نیمه هادی بعد از پرداخت مقدور خواهد بود
توضیحات کتاب در بخش جزئیات آمده است و می توانید موارد را مشاهده فرمایید


این کتاب نسخه اصلی می باشد و به زبان فارسی نیست.


امتیاز شما به این کتاب (حداقل 1 و حداکثر 5):

امتیاز کاربران به این کتاب:        تعداد رای دهنده ها: 4


توضیحاتی در مورد کتاب Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology

نام کتاب : Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology
عنوان ترجمه شده به فارسی : راهنمای فناوری تمیز کردن ویفر نیمه هادی
سری : Materials Science and Process Technology Series
نویسندگان : ,
ناشر : William Andrew
سال نشر : 1994
تعداد صفحات : 634
ISBN (شابک) : 9780815513315 , 0815513313
زبان کتاب : English
فرمت کتاب : pdf
حجم کتاب : 35 مگابایت



بعد از تکمیل فرایند پرداخت لینک دانلود کتاب ارائه خواهد شد. درصورت ثبت نام و ورود به حساب کاربری خود قادر خواهید بود لیست کتاب های خریداری شده را مشاهده فرمایید.

توضیحاتی در مورد کتاب :


این کتاب تمام دانش مربوطه در مورد تمیز کردن ویفر نیمه هادی و رشته های علمی و فنی مرتبط مستقیم یا غیرمستقیم با این موضوع را در یک جلد گرد هم آورده است. این کتاب اولین شرکت جامع و به روز را ارائه می دهد

فهرست مطالب :



Content:
Front Matter
• Preface
• Table of Contents
•Part I. Introduction and Overview 1. Overview and Evolution of Semiconductor Wafer Contamination and Cleaning Technology
2. Trace Chemical Contamination on Silicon Surfaces
•Part II. Wet-Chemical Processes 3. Aqueous Cleaning Processes
4. Particle Deposition and Adhesion
•Part III. Dry Cleaning Processes 5. Overview of Dry Wafer Cleaning Processes
6. Ultraviolet-Ozone Cleaning of Semiconductor Surfaces
7. Vapor Phase Wafer Cleaning Technology
8. Remote Plasma Processing for Silicon Wafer Cleaning
•Part IV. Analytical and Control Aspects 9. Measurement and Control of Particulate Contaminants
10. Silicon Surface Chemical Composition and Morphology
11. Analysis and Control of Electrically Active Contaminants by Surface Charge Analysis
12. Ultratrace Impurity Analysis of Silicon Surfaces by SIMS and TXRF Methods
•Part V. Conclusions and Future Directions 13. Future Directions
Index

توضیحاتی در مورد کتاب به زبان اصلی :


This book brings together into one volume all pertinent knowledge on semiconductor wafer cleaning and the scientific and technical disciplines associated directly or indirectly with this subject. The book provides the first comprehensive and up-to-date co



پست ها تصادفی